Mikroelektronik/Flachbildschirme

Technische Kurzberichte

Kurzbericht 44: Gezielte Kontrolle von gelöstem O2 und N2
Gezielte Kontrolle von O2 und N2 Gas in Wasser der Halbleiter Wafer Reinigung.

Kurzbericht 33: IMEC-Fallstudie zur Senkung von O2 auf 3 ppb
Halbleiterforschungseinrichtung verwendet Liqui-Cel®-Entgasungskontaktoren zum Entgasen von Wasser auf 3 ppb Sauerstoff.

Kurzbericht 46: Verbesserung der EDI-Leistung durch Membrankontaktoren
Liqui-Cel®-Dekarbonatoren ein gängiges Verfahren zum Entfernen von CO2 nach UO und vor EDI für eine optimale Leistung.

Kurzbericht 72: Chinesische Chemikalienfabrik optimiert Wasserbehandlung durch Ersatz einer zweistufigen RO mit einstufiger RO und Liqui-Cel® Kontaktoren
Diese Feldstudie beschreibt wie ein Chemieproduzent ein doppelstufiges RO System mit RO+Liqui-Cel® ersetzt um die Wasserbehandlung zu optimieren

Kurzbericht 68: Chemikalien Kostenvergleich zwischen LC und traditionellen Entgasungssystemen
Diese technische Studie erläutert den Prozess, welchen Firmen durchlaufen zur Erhebung von Betriebskosten und Leistungsabschätzung verschiedener Entgasungsysteme

Kurzbericht 19: Verbesserung der Qualität des aufbereiteten Wassers in UO- und EDI-Systemen
CO2 -Entgasung von Wasser mit Liqui-Cel®-Kontaktoren verbessert die Leistung von UO-EDI-Systemen.

Weitere Technische Kurzberichte

Weitere Informationen

Suchen Sie das richtige Produkt für Ihr Entgasungsverfahren? In den technischen Spezifikationen finden Sie ausführliche Informationen zu allen Liqui-Cel¨-Membrankontaktoren.

Übersichtsbroschüre
Produktdatenblätter
Referenzen
Berechnungshilfe für Systemgröße und Kosten

In der Mikroelektronikindustrie werden seit mehr als 15 Jahren Liqui-Cel®-Membrankontatoren eingesetzt, um bei der Herstellung von Halbleiterwafern den Sauerstoff und Kohlendioxid aus dem DI-Wasser zu entfernen. Liqui-Cel®-Kontaktoren können gelösten Sauerstoff problemlos bis auf eine Menge von 1 ppb und gelösten Kohlenstoffdioxid bis auf eine Menge von 1 ppm entfernen.

Halbleiterwafer und Flachbildschirme durchlaufen einen mehrstufigen Prozess, in dessen Verlauf Schichten belichtet und entwickelt werden. Bei der Verarbeitung der einzelnen Schichten müssen die Rückstände der Verarbeitungsmaterialien mit Hilfe von ultrareinem Wasser von der Halbleiterscheibe entfernt werden. Wenn sich im Wasser Gase befinden, können sich diese auf der Oberfläche des Halbleiterwafers ablagern und dessen Oberfläche beschädigen.

Darüber hinaus haben sich EDI und CDI in der Halbleiterindustrie als gängiges Verfahren zum Ionenaustausch durchgesetzt. Diese Technologien arbeiten effizienter, wenn zuerst das gelöste CO2 aus dem Wasser entfernt wird. Ein zu hoher CO2-Gehalt im Wasser führt zu einer Aufladung des EDI-Systems, und es müssen mehr EDI-Blöcke als eigentlich notwendig installiert werden. Zudem beeinträchtigt die CO2-Aufladung die Silizium und Borergebnisse der EDI/CDI-Technologien.

Liqui-Cel®-Kontaktoren haben sich in der Mikroelektronik- und Flachbildschirmindustrie zum Standard für Entgasung entwickelt, da sie sauber sind, sehr wenige Rückstände haben und die Wasserqualität nicht beeinträchtigen. Dank ihrer Oberflächengröße (10-mal größer als die eines Vakuumentgasers!) sind sie so kompakt, dass sie praktisch überall im Gebäude eingesetzt werden können. Im Gegensatz zu Vakuumtürmen sind sie modular und können bei Änderungen der Anlagenspezifikation erweitert werden. Wenn das erforderliche Wasservolumen zunimmt oder die Sauerstoffspezifikation niedriger wird, können problemlos weitere Kontaktoren im System installiert werden.

Membrankontaktoren genießen in dieser Branche seit mehr als 15 Jahren einen hervorragenden Ruf. 

Technische Dokumente

Deoxidation auf geringe Menge bei Lucent Technologies
Dieser Artikel enthält eine Zusammenfassung einer Fallstudie bei Lucent Technologies. Dort wurden Liqui-Cel®-Membranentgaser eingesetzt, um eine Sauerstoffentgasung von Wasser auf 10 ppb zu erreichen.

Membrankontaktoren: Einführung in die Technologie
Dieser Artikel bietet eine Übersicht über die Membrankontaktortechnologie. Außerdem werden die Prinzipien des Membrankontaktorverfahrens und des Massetransfers erläutert.

Einhalten von Spezifikationen der Wasserqualität für die 300 mm-Fertigung
Dieser Bericht gibt einen Überblick über die UPW-Spezifikationen der 300 mm-Fertigung von den Anfängen bis zum aktuellen Stand. Der Artikel erläutert aktuelle Technologien, einschließlich des Liqui-Cel®-Kontaktors, die den neuen Spezifikationen entsprechen.

UltraPure-Wasser: Systeme für die Mikroelektronik
In diesem Artikel wird die Verwendung von Liqui-Cel®-Membrankontaktoren als bevorzugtes Verfahren zur Entgasung und Sauerstoffentfernung in der modernen Halbleiterproduktion anstelle älterer Technologien wie beispielsweise Vakuumtürme beschrieben.

VLSI bevorzugt für Entgasung Liqui-Cel-Kontaktoren gegenüber konventionellen Vakuumtürme
Dieser Artikel befasst sich mit den von VLSI im Werk von San Antonio, Texas, eingesetzten Verfahren und Technologien. Zur Sauerstoffentfernung auf Werte unterhalb von 1 ppb wurden Liqui-Cel®-Kontaktoren statt Vakuumentgasung gewählt.

Wasseraufbereitung durch Membrantechnik in der Halbleiterindustrie
In diesem Artikel wird der Gesamt-UPW-Durchlauf in einem Halbleiteranlage beschrieben. Membranentgasung gilt als die Technologie der Zukunft für eine Deoxidation auf bis zu 1 ppb.

Die Verwendung von Membrankontaktoren für die CO2-Entfernung zur Verlängerung der Lebensdauer von Harzbetten
Dieses Fallbeispiel erläutert Einsparmöglichkeiten und Effizienzsteigerungen des öffentlichen Dienstes der US-amerikanischen Stadt San Antonio in Texas.  Für die dortige Anlage wurden Liqui-Cel-Kontaktoren statt eines Saugluftentgasers zur CO2-Entfernung aus Wasser gewählt, um so die Lebensdauer der Harzbetten zu verlängern, die Betriebskosten zu senken und den Einsatz chemischer Zusätze zu vermeiden.

Membranen zur Sauerstoffentfernung in 300 mm-Halbleiterfertigung
In diesem Dokument wird beschrieben, wie mithilfe von Entgasungsmembranen niedrige Sauerstoffspezifikationen in der 300 mm-Halbleiterfertigung eingehalten werden können.